Predstavenie produktov

Ako surovinu používame-nikel s vysokou čistotou a používame profesionálnu technológiu spracovania a technológiu leštenia, aby naše niklové terče mali vlastnosti vysokej účinnosti naprašovania a dobrej tepelnej stability. V polovodičovom priemysle sú niklové terče obzvlášť kritickým materiálom na naprašovanie, pretože môžu nanášať rovnomerné a vysokokvalitné niklové filmy na polovodičové substráty. Či už ide o logické čipy, pamäťové čipy alebo rôzne pokročilé polovodičové senzory, niklové terčíky Ni201 zohrávajú nezastupiteľnú úlohu a sú jedným zo základných materiálov na zabezpečenie výkonu a spoľahlivosti polovodičových produktov.

Špecifikácia produktov

Dĺžka	100-500 mm
šírka	80-300 mm
Hrúbka	Prispôsobené
Tolerancia	± 0,05 mm
Teplota topenia	1455 stupňov
Hustota	8,9 g/cm³
Pevnosť v ťahu	Väčšie alebo rovné 450 MPa
Medza klzu	Väčšie alebo rovné 200 MPa
Tvrdosť	HRB 50 - 55
Predĺženie	Väčšie alebo rovné 30 %

Vlastnosti produktu a aplikácie

Vynikajúca rovnomernosť rozprašovania

Používame pokročilé výrobné procesy a vysoké štandardy kontroly kvality, ktoré umožňujú našim niklovým terčom vykazovať vysokú úroveň jednotnosti počas procesu naprašovania. Táto rovnomernosť umožňuje uvoľňovanie atómov niklu z cieľového povrchu a ich ukladanie na substrát stabilnou a konzistentnou rýchlosťou, čím sa vytvára niklový film s minimálnou odchýlkou a vysokou rovinnosťou povrchu.

Vynikajúce mechanické vlastnosti

Ni201 niklový terčový materiál má dobrú pevnosť v ťahu, medzu klzu a predĺženie, takže môže odolať rôznym procesným namáhaniam počas výroby a spracovania bez porušenia.

Dobrá tepelná stabilita

V procese výroby polovodičov je odolnosť voči vysokej teplote atribútom produktu, ktorý nemožno ignorovať. Ni201 niklový terčový materiál má dobrú tepelnú stabilitu a dokáže si udržať stabilné fyzikálne a chemické vlastnosti pri vysokých teplotách. Nespôsobí zjavnú expanziu, kontrakciu a deformáciu v dôsledku vysokých teplôt. To zaisťuje stabilný proces naprašovania a konzistentnú kvalitu niklového filmu.